Charakteristika

• Nízké kapitálové náklady
• Nízké náklady na vlastnictví
• Bez paliva
• Nízké využití vody
• Nízká spotřeba
• Malé rozměry
• Rozšířené zabezpečení
• PLC řízení
• Monitorování celého systému
• Nástrojové rozhraní
• Vyhovující SEMI S2-93
• Vynikající konstrukce
• Vysoký výkon
• Až 4 nezávislé samočistící vstupy.
• Jedinečná konstrukce oxidační komory zvyšuje destrukční efektivitu při minimalizaci částicových depozic.
• Neobvyklá konstrukce na posuvné platformě poskytuje snadnou údržbu, což má za následek nižší nároky na údržbu, ve srovnání s konkurenčními jednotkami.
• Integrální bypass ventily, které jsou k dispozici jako volitelné extra funkce.
• K dispozici integrální vodní recirkulační jednotka, jako volitelná extra funkce pro minimalizování užitkové spotřeby a COO.

Oblasti použití

Ideální pro většinu CVD aplikací včetně:

• PECVD TEOS, BPSG, Oxide
• PECVD Nitride
• Tungsten CVD
• LPCVD