Název projektu:

ALPSW: Pokročilé laserové procesy výroby polovodičových desek

Poskytovatel dotace: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR / OP TAK Název výzvy: Aplikace – DEEP TECH – výzva III

Registrační číslo: CZ.01.01.01/01/24_063/0006908

Dotační program: Operační program Technologie a aplikace pro konkurenceschopnost

Realizace projektu: 7/2025 do 6/2028.

Cíl projektu:  

Projekt je podpořen dotací na základě Rozhodnutí o poskytnutí dotace č. j. MPO 67183/26/21600. Společnost ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o., je příjemcem podpory projektu v rámci Operačního programu Technologie a aplikace pro konkurenceschopnost, Aplikace – výzva III. – DEEP TECH. Projekt je řešen ve spolupráci se společností Activair s.r.o. a výzkumnými organizacemi Masarykova univerzita – Přírodovědecká fakulta, Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. – Centrum HiLASE, Activair s.r.o., Masarykova univerzita, Vysoké učení technické v Brně.